サンプルステージはX軸駆動、測定Unit部はガントリ式でYZ軸駆動します。

光学系BOXにZ軸を組み込み。測定時に距離を調整します。

基板は装置内でアラインメントにより基板位置補正。

サンプルステージはサンプルを全面真空吸着。

蛍光X線測定とシート抵抗測定との同時測定が可能です。

サンプルサイズの要望に合わせた装置提供が可能です。

コンピュータ統合生産(CIM)に対応可能です。

サンプル受渡部は、コンベア・ロボットなど要望に対応します。

装置概要
半導体ウェーハやガラス基板等の金属汚染をX線で測定する装置です。

アプリケーション
プロセス前後の半導体ウェーハの金属汚染確認。

ガラス基板等でのパーティクル系の金属汚染確認。

装置の特長
軽元素から重元素まで分析できます。

マップ機能により金属汚染マップが得られます。

独自のオプションが選択可能です。

ワークに対して、すれすれにX線を入射させて全反射させながら蛍光X線を
測定します。

軽元素、遷移元素、重元素それぞれに応じたX線源をご用意致します。

蛍光X線検出器は、最新式の液体窒素レスX線検出器です。

低コストです。