半導体ウエハ加熱温度均一性能に優れた高温対応(350°C)が可能な高温ホットプレートです。

昇温・降温ともにクイックレスポンスを実現し、特別な付帯設備が不要で、温度設定変更時の面内均一性に 優れた半導体製造装置用昇降温型ホットプレートも開発しました。

弊社はこれらのホットプレートの性能をフルに発揮するベーキング装置も設計・製作しています。

サーモビューアー図

12インチウェーハの面内温度精度

温度制御グラフ

温度設定変更時間 : 180[sec] / 50[°C]

(温度設定変更開始から制御温度が設定値±0.3°C内で安定し始めるまでの時間)